晶圓等離子清洗機(jī)原理
文章導(dǎo)讀：晶圓等離子清洗機(jī)是應(yīng)用在晶圓及半導(dǎo)體封裝行業(yè)的設(shè)備，隨著技術(shù)革新，工藝進(jìn)步，半導(dǎo)體器件制造商進(jìn)一步縮小尺寸，提高封裝器件的可靠性，晶圓等離子清洗機(jī)也得到了更多的應(yīng)用，那么它為什么受到廠商的喜愛(ài)呢？
晶圓等離子清洗機(jī)是應(yīng)用在晶圓及半導(dǎo)體封裝行業(yè)的設(shè)備，隨著技術(shù)革新，工藝進(jìn)步，半導(dǎo)體器件制造商進(jìn)一步縮小尺寸，提高封裝器件的可靠性，晶圓等離子清洗機(jī)也得到了更多的應(yīng)用，那么它為什么受到廠商的喜愛(ài)呢？
一、晶圓等離子清洗機(jī)原理
晶圓等離子清洗機(jī)是一種通過(guò)等離子體進(jìn)行表面處理的工藝，功能非常豐富，可以做到超潔凈清洗、活化、刻蝕、涂覆等多種用途；
清洗：去除晶圓表面的污染物；
活化：提高晶圓表面粘接力；
刻蝕：通過(guò)等離子體刻蝕出線路；
涂覆：粘接力提高后，涂層可以均勻涂覆在上面；
二、晶圓等離子清洗機(jī)應(yīng)用
在UBM中，BCB與UBM的粘附等離子體處理改變晶片的鈍化層的形態(tài)和潤(rùn)濕作用。高分子材料，例如苯并環(huán)丁烯（BCB）和UBM，在晶片的介電層中重新分布。等離子體清洗機(jī)處理使硅片初始鈍化層形態(tài)發(fā)生變化，潤(rùn)濕性增強(qiáng)。介質(zhì)圖案形成再分配層的典型方法包括采用典型光刻方法對(duì)介質(zhì)再分配材料進(jìn)行圖案化。晶圓等離子清洗機(jī)是介質(zhì)圖案化的可行替代方法，并可避免傳統(tǒng)的濕法處理。
同時(shí)晶圓等離子清洗機(jī)能夠解決晶圓、銅引線框架、PCB基板、金屬基板、金手指等產(chǎn)品的表面處理難題，在黏晶、焊線、鍵合、打線、塑封等工藝中起作用，歡迎需要的用戶聯(lián)系我們。
晶圓等離子清洗機(jī)是一種通過(guò)等離子體進(jìn)行表面處理的工藝，功能非常豐富，可以做到超潔凈清洗、活化、刻蝕、涂覆等多種用途；
清洗：去除晶圓表面的污染物；
活化：提高晶圓表面粘接力；
刻蝕：通過(guò)等離子體刻蝕出線路；
涂覆：粘接力提高后，涂層可以均勻涂覆在上面；
在UBM中，BCB與UBM的粘附等離子體處理改變晶片的鈍化層的形態(tài)和潤(rùn)濕作用。高分子材料，例如苯并環(huán)丁烯（BCB）和UBM，在晶片的介電層中重新分布。等離子體清洗機(jī)處理使硅片初始鈍化層形態(tài)發(fā)生變化，潤(rùn)濕性增強(qiáng)。介質(zhì)圖案形成再分配層的典型方法包括采用典型光刻方法對(duì)介質(zhì)再分配材料進(jìn)行圖案化。晶圓等離子清洗機(jī)是介質(zhì)圖案化的可行替代方法，并可避免傳統(tǒng)的濕法處理。
下一篇：led支架等離子清洗機(jī)怎么用？ 上一篇：等離子清洗機(jī)廠家介紹
“推薦閱讀”
【本文標(biāo)簽】：等離子清洗機(jī)晶圓等離子清洗機(jī)
【責(zé)任編輯】：普樂(lè)斯電子版權(quán)所有：http://www.hrb0505.cn轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處
【責(zé)任編輯】：普樂(lè)斯電子版權(quán)所有：http://www.hrb0505.cn轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處
蘇公網(wǎng)安備 32058302002178號(hào)
